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ABM纳米压印光刻系统

发布时间:2018-09-28

ABM纳米压印光刻系统.jpg

ABM光刻机可集成纳米压印功能,模版材料:硅,石英,镍等,适用于各种纳米压印版式的模版;压印模版可以广泛应用于可再生能源、微流体、纳流体、发光二极管和激光器、生命科学,如芯片实验室系统、光学、射频元器件、数据存储、半导体等不同的领域

主要技术指标:

光强均匀性Beam Uniformity:

---< ±1% over 2”区域

---< ±2% over 4”区域

---< ±3% over 6”区域

接触式样曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):0.5 um

接触式样曝光特征尺寸CD(深紫外DUV):0.35 um

支持接近式曝光,特征尺寸CD:

---0.8um硬接触

---1um20um间距时

---2um50um间距时

正面对准精度±0.5um

背面对准精度±2-±3um(Depends on user)

支持正胶、负胶及Su8胶等的厚胶光刻,特征尺寸:100um-300um

支持LED优异电流控制技术PSS工艺光刻

支持真空、接近式、接触式曝光

支持恒定光强或恒定功率模式


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